等离子清洗设备常用的工艺气体有氧气.氩气.氮气.压缩空气.二氧化碳.氢气.四氟化碳等。等离子清洗设备是对气体电离产生的等离子体进行清洗活化改性处理，达到最佳的处理效果，今日我们一起了解相关的工艺气体。
一.氧气：氧气是等离子清洗常用的活性气体，属于物理+在化学处理中，电离产生的离子体可以物理轰击表面，形成粗糙的表面。同时，高活性氧离子可与断键后的分子链发生化学反应，形成活性基团的亲水表面，达到表面活化的目的；
二.氢气：氢类似于氧气，属于高活性气体，可以激活和清洁表面。氢与氧的区别主要是反应后形成的活性基团不同，氢具有还原性，可用于去除金属表面的微氧化层，不易损坏表面敏感的有机层。
三.氮气：氮气电离形成的等离子体可以与一些分子结构发生关键反应，因此它也是一种活性气体，但与氧气和氢气相比，它的粒子相对较重。通常，这种气体将在等离子体清洗机的应用中定义为活性气体氧气.氢与惰性气氩之间的一种气体。
等离子清洗设备处理的优点有如下：
1.在需要粘合之前，根据工艺选择通过微波等离子源进入的反应气体，然后离子和其他物质与表面有机污染物发生化学反应，形成废气被真空泵抽出，经过测试，清洁前后的表面张力发生了很大的变化，有助于提升表面的粘结力；
2.喷涂前等离子清洗处理，提高喷涂效果；
低温等离子体技术在气体污染物处理方面具有显著的优势。其基本原理是在电场加速的作用下产生高能电子。当电子平均能量超过目标处理的分子化学键能时，分子键断裂，以清洗气体污染物。